電子工業(yè)用超純水概述 半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。

       用兩級(jí)反滲透制取電子工業(yè)超純水處理設(shè)備 采用兩級(jí)反滲透主機(jī)加EDI 制取電子工業(yè)超純水處理設(shè)備 

制備電子工業(yè)用超純水的工藝流程 　　

電子行業(yè)制備超水的工藝大致分成以下幾種：

2、采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進(jìn)行組合的方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→原水箱→反滲透設(shè)備→混床（復(fù)床）→純水箱→純水泵→后置精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)

3、采用反滲透水處理設(shè)備與電去離子（EDI）設(shè)備進(jìn)行搭配的的方式，這是一種制取超純水的最新工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿�巨大的超純水制備工藝，其基本工藝流程為：原水→沙炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→原水箱→反滲透設(shè)備→電去離子（EDI）→純水箱→純水泵→后置精密過(guò)濾器→用水點(diǎn) 采用離子多級(jí)離子交換樹脂制取電子工業(yè)超純水處理 采用反滲透加EDI電去離子制取電子工業(yè)超純水處理

三種制備電子工業(yè)用超純水的工藝比較 目前制備電子工業(yè)用超純水的工藝基本上是以上三種，其余的工藝流程大都是在以上三種基本工藝流程的基礎(chǔ)上進(jìn)行不同組合搭配衍生而來(lái)。

現(xiàn)將他們的優(yōu)缺點(diǎn)分別列于下面：

電子工業(yè)用超純水的應(yīng)用領(lǐng)域